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Inline Argon Plasma Cleaning Machine HPC-Inline
HPC-Inline

Inline-Argon-Plasmareinigungsanlage

HPC-Inline

Maschinenmerkmale

1. Niedertemperatur-Argonplasma (38 ℃), sodass Chips oder Dünnschichten nicht beschädigt werden.

2. Kompatible Gase: Argon (Ar), Sauerstoff (O2).


Anwendungsbereiche

Reinigung und Oberflächenmodifikation von LEDs, LCDs, ITO-Glas, Leiterplatten und Glasabdeckungen vor der AF-Beschichtung.


Überblick

Hauptanwendungen von Plasmareinigungsanlagen:
1. Haftungsverbesserung: Verbessert die Zuverlässigkeit und Dauerhaftigkeit von Oberflächenverbindungen.
2. Aktivierung: Erhöht die Benetzbarkeit der Oberfläche deutlich und erzeugt eine aktive Oberfläche.
3. Oberflächenmodifikation: Verbessert nachfolgende Prozesse wie Dosieren, Kleben, Haftverbinden, Schweißen, Beschichten und Vergießen.
4. Reinigung: Entfernt organische Verunreinigungen, Oxide und geringste Ölrückstände von Metalloberflächen.

Prozesseffekte

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