Durch Aktivierung dieser Option stimmen Sie der vollumfänglichen Cookie-Nutzung sowie der Übermittlung personenbezogener Daten in Drittländer zu. Sie können Ihre Einwilligung jederzeit widerrufen. Die vor dem Widerruf auf Basis dieser Einwilligung erfolgte Datenverarbeitung bleibt rechtmäßig.


1. Subnanosekundenpulse; nahezu beugungsbegrenzte Strahlqualität; hohe Spitzenenergie und hohe Spitzenleistung
2. Einzigartige rein faserbasierte optische Konfiguration mit hervorragender Stabilität und überlegener Bearbeitungsleistung gegenüber anderen Subnanosekundenlasern in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie.
3. Einstellbare Wiederholrate
4. Kompakte Bauweise und geringer Platzbedarf
Schneiden, Bohren und Ritzen (Glas, Silizium, Keramik);
Dünnschichtstrukturierung (Metalle, Dünnschichten);
Laserbeschriftung (Glas, Silizium, Keramik, Metalle, Kunststoffe).
Maschinenmodell | Infrarot-Subnanosekundenlaser NPFL-80IR-1.01 |
Betriebsmodus | gepulst |
Mittlere Leistung (W) | 80 |
Zentrale Wellenlänge (nm) | 1064 |
Spektrale Linienbreite (nm) | <30; 3-dB-Linienbreite |
Wiederholrate (kHz) | 100–2000; einstellbar |
gepulst Width(ns) | 0,1–0,2 ns; kundenspezifisch anpassbar |
Max. Einzelpulsenergie (mJ) | 0,8 |
Leistungseinstellbereich (%) | 0–100 |
Ansprechzeit (µs) | <100 |
Strahlqualität (M²) | ≤1,5 |
Leistungsstabilität (%) | ≤3 %; 24 h |
Strahlfleckgröße (mm) | 3,0±0,2; 1/e² |
Strahlelliptizität (%) | >90; Typ.92 % |
Strahlversatz (mm) | <1,0 |
Strahldivergenzwinkel (mrad) | <0,5 |